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英語(yǔ)人>網(wǎng)絡(luò)解釋>刻 相關(guān)的搜索結(jié)果
網(wǎng)絡(luò)解釋

與 刻 相關(guān)的網(wǎng)絡(luò)解釋 [注:此內(nèi)容來(lái)源于網(wǎng)絡(luò),僅供參考]

lithographic process

光刻Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic mask 光掩模Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic process 光Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic resolution 光清晰度Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic equipment

光刻裝置

litho 光 | lithographic equipment 光裝置 | lithographic imagery 光成象

lithographic equipment

光刻裝置Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

litho 光Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic equipment 光裝置Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic imagery 光成象Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic imagery

光刻成象

lithographic equipment 光裝置 | lithographic imagery 光成象 | lithographic mask 光掩模

lithographic imagery

光刻成象Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic equipment 光裝置Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic imagery 光成象Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic mask 光掩模Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic mask

光刻掩模

lithographic imagery 光成象 | lithographic mask 光掩模 | lithographic process 光

lithographic mask

光刻掩模Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

lithographic imagery 光成象Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic mask 光掩模Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng) | lithographic process 光Xmj中國(guó)學(xué)習(xí)動(dòng)力網(wǎng)

notching

刻痕

在對(duì)硅進(jìn)行蝕時(shí)會(huì)出現(xiàn)氧化硅等絕緣膜的結(jié)構(gòu)中,溝槽底部的絕緣膜表面發(fā)生絕緣物帶電,會(huì)導(dǎo)致離子偏移,使側(cè)壁的下面部分被蝕. 這稱為痕(Notching). 并且,即使表面為絕緣物,仍可能發(fā)生絕緣物帶電,從而影響離子的軌跡,使其發(fā)生稱為側(cè)向偏移(Bowing)的變形.

photoetch pattern

光刻圖案

photolithographic diffusion window 光擴(kuò)散窗口 j NZCpyI | photoetch pattern 光圖案 $kvdl$e T | photolithographic mask layer 光掩蔽層 ;d!@4#

photoetch method

光刻蝕法

photoengraving 光蝕 | photoetch method 光蝕法 | photoetched evaporation mask 光蒸發(fā)掩膜

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bioactive peptides:活性多肽

有效部位:Bioactive fraction | 活性多肽:bioactive peptides | 活性篩選:Bioactive screening